网友提问 ：12、2024 年 11 月 8 日，国家知识产权局公布了一项公司有关“一种掩膜装置、掩膜装置的制作方法和光刻设备”的发明专利，请问该专利是基于未来产品规划和公司发展需要？
2024-11-13 00:00:00
莱宝高科 (002106): 回答：答：上述您所提及的发明专利为公司已自主研发出的技术，目前处于申请公开阶段，尚未获得授权，能否获得授权存在一定的不确定性；公司使用该等技术目前用来提升触摸屏产品的分辨率等技术指标，设备制作精度仅为微米级别，与半导体行业的光刻设备的制作精度（一般精度为纳米级别）差距几百倍甚至上千倍，敬请包括您在内的广大投资者予以客观理性看待。
2024-11-13 00:00:00