网友提问 :清洗光刻胶残留是微电子制造过程中的关键步骤之一,因为残留的光刻胶可以影响电子器件的性能和可靠性。昇丙醇胺在这个过程中被广泛使用,因为它对光刻胶具有良好的溶解性能,并且在适当的工艺条件下可以高效地清洗?
2023-09-15 21:02:14
红 宝 丽 (002165): 回答:具体工艺条件下有何功效,如何发挥功效,请您咨询光刻胶行业企业。谢谢!
2023-09-18 20:50:17
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