网友提问 ：光刻机刻蚀是用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要材料的过程。刻蚀的基本目标是在涂胶的硅片上正确地复制掩膜图形。现代化的干法刻蚀设备包括复杂的机械、电气和真空系统，同时配有自动化的刻蚀终点检测和控制装置。刻蚀应用工况复杂，清洁性差，充入特种气体种类繁多，因此需要特殊处理的干泵和磁悬浮分子泵。请问贵司有干泵和磁悬浮分子泵的相关技术储备吗？谢谢！
2024-05-28 14:59:33
中金环境 (300145): 回答：尊敬的投资者，您好！公司暂无干泵和磁悬浮分子泵相关产品。感谢您的关注，祝投资顺利！
2024-06-07 15:04:04