网友提问 ：28、根据天眼查显示，公司研发并申请专利的 ArF 湿法光刻胶灵敏度达 45-60nm，边缘粗糙度为 2-3 纳米，是否标志着公司 ArF 光刻胶已达国内领先水平？
2023-05-09 00:00:00
上海新阳 (300236): 回答：尊敬的投资者：你好！公司开发的 ArF 湿法光刻胶主要是为了满足国内集成电路产业的发展需要，有些指标处于国内领先水平。
2023-05-09 00:00:00
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2023-05-09 00:00:00
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上海新阳
法定名称：
上海新阳半导体材料股份有限公司
公司简介：
公司系上海新阳半导体材料有限公司全体股东以发起方式设立的股份有限公司。
经营范围：
一类为集成电路制造及先进封装用关键工艺材料及配套设备的研发、生产、销售和服务,并为客户提供整体化解决方案。另一类为环保型、功能性涂料的研发、生产及相关服务业务,并为客户提供专业的整体涂装业务解决方案。
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