网友提问 :68、请问,贵公司生产光刻胶能否用于 5 纳米的芯片制造上?如果不能,最低可以用于多少纳米的芯片制造?
2023-05-17 00:00:00
晶瑞电材 (300655): 回答:答:近年来,公司建成了具有国际水平的高端光刻胶生产线和测试实验平台,同时拥有紫外宽谱、g 线(436nm)、i 线(365nm)、KrF(248nm)、ArF(193nm)全系列光刻机测试实验平台。公司 i 线光刻胶已向中芯国际、合肥长鑫等国内的知名大尺寸半导体厂商供货;公司于 2020 年启动了集成电路制造用高端光刻胶研发项目,并于 2020 年下半年购买了 ASML1900 Gi 型光刻机及配套设备,于 2021 年下半年购入了尼康 KrF S207 光刻机及配套设备,已建成 ArF、KrF 光刻实验室。该研发项目系由公司牵头发起的超大规模集成电路用高端光刻胶技术攻关及产业化工程的攻关任务之一,旨在通过自主研发,打通 ArF、KrF 光刻胶用树脂的工艺合成路线,研发满足 90-28nm芯片制程的 ArF(193nm)光刻胶以及国内用量最大的 KrF 光刻胶,满足当前集成电路产业关键材料市场需求。目前 ArF 高端光刻胶研发工作在有序开展中,KrF 高端光刻胶部分品种已量产。
2023-05-17 00:00:00