网友提问 :SAQP自对准四重曝光对于曝光设备的套刻精度要求较低,但对于侧墙刻蚀、原子层沉积、硬掩模沉积、掩膜图像转移等工艺的精度要求较高。公司的产品是否可以用于saqp技术的相关环节?
2024-04-09 14:20:07
国林科技 (300786): 回答:尊敬的投资者,您好。公司暂未涉及相关业务。感谢您的关注。
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