网友提问 ：董秘您好，多重曝光技术拉动薄膜沉积设备需求，公司目前的薄膜沉积领域的设备，是否可以满足7纳米制程以下的半导体设备需求？
2024-04-12 17:00:19
国林科技 (300786): 回答：尊敬的投资者，您好。公司目前在薄膜沉积领域的臭氧专用设备，可以满足7纳米制程以下的半导体设备需求。感谢您的关注。
2024-04-15 16:25:39
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国林科技
法定名称：
青岛国林科技集团股份有限公司
公司简介：
1994年12月13日,丁香鹏、陈建明与朱若英以货币形式设立“青岛国林实业有限责任公司”。
经营范围：
专业从事臭氧产生机理研究、臭氧设备设计与制造、臭氧应用工程方案设计与臭氧系统设备安装、调试、运行及维护等业务。
注册地址山东省青岛市市北区瑞昌路168号
办公地址山东省青岛市崂山区株洲路188号甲
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