网友提问 ：美国限制全环绕栅极GAA：全环绕栅极GAA尖端芯片技术，先进芯片架构。
GAA工艺核心在于多次光刻、刻蚀、沉积:核心步骤通过原子层沉积（ALD）技术完成！!公司沉积清洗设备是否可以用在GAA工艺上？
2024-11-23 14:36:26
国林科技 (300786): 回答：尊敬的投资者，您好。公司薄膜沉积和臭氧清洗设备可以应用于GAA工艺，目前半导体清洗方面的业务占公司主营业务收入比重较小。感谢您的关注。感谢您的关注。
2024-11-28 11:30:11
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2024-11-21 11:30:11
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2024-11-19 15:49:09
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2024-11-18 08:48:09
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2024-11-14 11:30:10
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2024-11-14 11:30:10
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国林科技
法定名称：
青岛国林科技集团股份有限公司
公司简介：
1994年12月13日,丁香鹏、陈建明与朱若英以货币形式设立“青岛国林实业有限责任公司”。
经营范围：
专业从事臭氧产生机理研究、臭氧设备设计与制造、臭氧应用工程方案设计与臭氧系统设备安装、调试、运行及维护等业务。
注册地址山东省青岛市市北区瑞昌路168号
办公地址山东省青岛市崂山区株洲路188号甲
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