网友提问 ：GAA（全环绕栅极）芯片技术需要大量多次通过沉积、光刻、刻蚀！对于公司产品有无潜在利润！！
2024-11-23 14:08:40
国林科技 (300786): 回答：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程，相关工艺材料的增量增加，必然导致对于清洗设备的需求增加。公司将致力于产品研发，努力开拓相关市场，提升公司业绩。感谢您的关注。
2024-11-28 11:30:11
国林科技最新互动问答
- 美国限制全环绕栅极GAA：全环绕栅极GAA尖端芯片技术，先进芯片架构。
GAA工艺核心在于多次光刻、刻蚀、沉积:核心步骤通过原子层沉积（ALD）技术完成！!公司沉积清洗设备是否可以用在GAA工艺上？
2024-11-28 11:30:11
- 请介绍一下贵公司对半导体市场的规划
2024-11-21 11:30:11
- 你好，新国9条是否会影响到公司，我看了贵公司的报表，分红，研发，每一项多没达标，这个年度过后是否会被st？
2024-11-19 15:49:09
- 贵公司在半导体公司验证多年了，却迟迟未推广，到底是什么原因？市场、价格还是技术？请公司不要遮遮掩掩
2024-11-18 08:48:09
- 请问今年有没有签订半导体领域的臭氧发生器合同？如果有，大概是多少？
2024-11-14 11:30:10
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国林科技
法定名称：
青岛国林科技集团股份有限公司
公司简介：
1994年12月13日,丁香鹏、陈建明与朱若英以货币形式设立“青岛国林实业有限责任公司”。
经营范围：
专业从事臭氧产生机理研究、臭氧设备设计与制造、臭氧应用工程方案设计与臭氧系统设备安装、调试、运行及维护等业务。
注册地址山东省青岛市市北区瑞昌路168号
办公地址山东省青岛市崂山区株洲路188号甲
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