网友提问 ：董秘你好，多重曝光是提升芯片制程的唯一办法，多重曝光需要反复涂胶-光刻-显影_刻蚀工艺，请问公司的业务会不会受益？
2023-09-08 15:15:02
富乐德 (301297): 回答：集成电路制造过程中的氧化/扩散（扩散炉、氧化炉、外延生长设备）、光刻（溶胶显影设备、涂胶设备）、刻蚀（介质、金属、边缘刻蚀设备）、离子注入、薄膜生长（金属沉淀设备、介质层沉积设备、原子层沉积设备、电镀设备）、机械抛光等设备均系公司洗净服务对象，几乎涵盖集成电路2/3工序的生产设备定期维护。
2023-09-08 17:05:16