网友提问 :日本佳能宣布推出新型光刻设备:FPA-1200NZ2C纳米压印(NIL)半导体制造设备!对ASML 的EUV技术是一种不小的冲击,NIL(纳米压印)有其低成本、低功耗、精度高的优点,我们公司一直是日本佳能的核心供应商,请问该设备公司是否有供货?
2023-11-13 17:09:26
凤凰光学 (600071): 回答:投资者您好,公司不是光刻机的供应商,感谢您对公司的关注
2023-11-13 17:09:26
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2023-10-23 09:42:16
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