盛剑科技 (603324): 回答：尊敬的投资者，您好！刻蚀、离子注入、扩散及薄膜沉积均属于半导体制程的关键环节，工艺废气处理设备、真空设备和温控设备在上述制程中共同发挥作用。下游客户对于产线的设计和建设会考虑不同设备之间的一致性和协调性。因此，公司逐渐形成了三种设备的整体供应能力，可满足客户的平台化配套需求，为客户提供基于半导体制程环节更加深度的定制化配套方案，设备之间的协调性也更有优势。公司通过产品布局、生产基地建设、高素质研发、运维及管理人才引进，打造先进半导体附属装备及核心零部件平台。

2024-11-22 13:52:00