网友提问 :海宁立昂东芯在2024年8月26日进入工厂的光刻机是多少nm的?立昂东芯phemt工艺需要几层光刻,需要用到多少nm的技术?荷兰的光刻机出口扩大管制是否会影响公司后续设备进厂?

2024-09-12 10:24:00

立昂微 (605358): 回答:尊敬的投资者:您好,感谢您对本公司的关注。立昂东芯的化合物半导体射频芯片制程目前为0.13微米以上,荷兰的光刻机出口扩大管制对公司无影响。谢谢。

2024-09-12 11:14:00

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立昂微
法定名称:
杭州立昂微电子股份有限公司
公司简介:
公司前身为“杭州立昂电子有限公司”,成立于2002年3月19日。
经营范围:
半导体硅片、半导体功率器件、化合物半导体射频芯片。
注册地址
浙江省杭州经济技术开发区20号大街199号
办公地址
浙江省杭州经济技术开发区20号大街199号

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