网友提问 :海宁立昂东芯在2024年8月26日进入工厂的光刻机是多少nm的?立昂东芯phemt工艺需要几层光刻,需要用到多少nm的技术?荷兰的光刻机出口扩大管制是否会影响公司后续设备进厂?
2024-09-12 10:24:00
立昂微 (605358): 回答:尊敬的投资者:您好,感谢您对本公司的关注。立昂东芯的化合物半导体射频芯片制程目前为0.13微米以上,荷兰的光刻机出口扩大管制对公司无影响。谢谢。
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