网友提问 ：公司ICP刻烛设备还需几年才能达到CCP刻烛设备是水平，公司ICP刻烛设备何时可以覆盖国内半导体刻烛设备的所有需求？
2023-04-24 17:00:53
中微公司 (688012): 回答：您好，公司已有的ICP刻蚀设备可以满足55nm，40nm和28纳米逻辑芯片制造中的ICP刻蚀工艺，以及在更先进的逻辑芯片、DRAM、3DNAND存储芯片和特色器件等芯片制造中不断拓展可刻蚀应用范围。相关情况请以公司披露的定期报告及公告为准。谢谢您的关注。
2023-04-24 17:00:53