网友提问 :公司目前在国内化学清洗领域市场表现如何,有哪些优势技术

2024-06-07 10:15:00

芯源微 (688037): 回答:公司战略性新产品前道化学清洗机 KS-CM300/200 于 2024 年 3 月正式公开发布,机台具有高工艺覆盖性、高稳定性、高洁净度、高产能等多项核心优势,并于 2023 年第四季度获得了国内重要客户的验证性订单。截至2024年4月底,公司已与国内其他多家重要客户达成合作意向,部分客户已进入到配置确认和商务流程阶段。作为公司的战略性新产品,后续公司将继续加大研发和推广力度,快速推进化学清洗机的商业化进程。 ①高工艺覆盖性:设备适用于薄膜前后清洗、干法蚀刻后清洗、离子注入灰化后清洗、CMP后清洗等多种清洗工艺,能够适配高温 SPM 工艺,整体工艺覆盖率达到 80%以上。 ②高稳定性:机台 UP Time 达到高指标要求,刻蚀一致性随机抽取 100 组稳定在 2%以内,可以满足客户的高稳定性需求。 ③高洁净度:机台借鉴了公司前道涂胶显影和前道物理清洗的成熟技术,通过气体流场仿真优化,确保机台内部微环境均匀稳定,同时搭载了独立研发的新一代高清洗效率低损伤射流喷嘴,通过 26nm particle 测试,达到先进制程所需工艺水平。 ④高产能:通过移植前道涂胶显影设备多层堆叠的技术优势,同时搭载公司自研的高速机械手,机台 16 腔高产能架构可以实现清洗效率的大幅提升,整体工艺产能够对标国际主流机台,达到国际先进水平。 相比于前道涂胶显影设备,前道清洗类设备标准化程度相对较高,验证周期较短,通过验证后有望快速提升市场份额。公司于 2018 年发布前道物理清洗设备后,在两年的时间内迅速成为了客户端主力量产机型。公司将借助前道物理清洗设备的成功经验,力争在前道化学清洗赛道实现跨越式发展,未来与前道涂胶显影设备一道形成两大主打优势产品,为公司长期发展提供稳定的业绩增长点。

2024-06-07 10:23:00

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公司简介:
2002年12月17日,公司前身沈阳芯源先进半导体技术有限公司成立。
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半导体专用设备的研发、生产和销售。
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