网友提问 ：Q14：请问公司目前开展的量测、清洗产品相关技术是否均为公司自主研发，要实现规模的快速放量会有那些技术难点？
2022-10-01 00:00:00
华海清科 (688120): 回答：A：公司CMP设备是包含量测及清洗模块的，清洗及量测技术均为公司自主研发。量测集成在抛光系统中，在抛光过程中需要量测模块对膜厚数据等进行监控以实现纳米厚度“停得准”，属于动态的量测技术，较静态的测试技术难度较高。抛光完成后需要清洗单元对晶圆表面污染物残留进行去除，污染物中既包含抛光产生的各种颗粒物，也包含抛光过程使用的各种化学品，对CMP清洗模块有着非常高的挑战。
2022-10-01 00:00:00