网友提问 ：2.请问在半导体掩膜版领域，包括 PSM 等的技术突破，公司未来几年在制程节点上的推进计划是怎么样的？
2024-01-11 00:00:00
清溢光电 (688138): 回答：答：半导体芯片掩膜版技术方面，公司已实现 180nm 工艺节点半导体芯片掩膜版的量产，已实现 150nm 工艺节点半导体芯片掩膜版的客户测试认证，正在推进 130nm-65nm的 PSM 和 OPC 工艺的掩膜版开发和 28nm 半导体芯片所需的掩膜版工艺开发规划。
2024-01-11 00:00:00