网友提问 ：4、ALD作为具有较高技术门槛的薄膜沉积技术，其未来应用前景如何？
2024-01-26 00:00:00
微导纳米 (688147): 回答：ALD技术凭借其原子层级沉积特点，具有薄膜厚度精确度高、均匀性好、台阶覆盖率极高、沟槽填充性能极佳等优势，特别适合在对薄膜质量和台阶覆盖率有较高要求的领域应用，在45nm以下节点以及3D结构等先进半导体薄膜沉积环节具有较好的应用前景。根据SEMI行业统计，半导体薄膜技术领域，ALD未来几年市场的复合增长率高达26.3%，超过半导体设备行业的平均增速。
2024-01-26 00:00:00