龙图光罩 (688721): 回答：您好！
1、继续深化特色工艺的研究
公司将以现有的半导体掩模版制造技术为基础，针对半导体关键制程或特殊工艺进行深度研发，满足客户需求，构筑独特的产品优势。同时，公司将通过联合研发合作方式，开展 180-90nm 半导体掩模版的检测技术的研究与开发，推动和实现部分重要检测设备的国产化。
2、逐步覆盖高端制程产品
依托自主研发，开展高端半导体掩模版的电子束光刻 KrF-PSM 及 ArF-PSM相移掩模技术等核心技术的持续攻关，同时开展更高工艺节点掩模版的工艺规划和技术储备，开展前瞻性的技术研究，逐步实现高端制程掩模版的量产和国产化替代。公司将始终坚持自主创新，加强外部合作，通过多种合作模式提升半导体掩模版的技术与应用水平。
3、持续加大研发投入力度
为保证持续创新能力，公司未来将加大研发资金及研发力量的投入，并推动项目成果转化，不断提升公司在行业的技术实力。同时公司将建立更为完善的知识产权管理体制，通过专员管理，加强公司对无形资产和专有技术的保护，并加大专利申请力度，确保公司的核心技术得以保护。
4、持续性人才团队建设
公司持续扩大研发团队规模，加强人才培养和管理，在对应届生进行内部培养的同时适度引进行业骨干人才，形成良性发展的梯队结构，打造具备持续创新能力的人才团队。公司持续完善员工激励机制，对优秀的人才开展股权激励，实现公司利益、个人利益、股东利益相结合；同时逐步完善薪酬体系结构，达到中长期目标和短期目标的平衡。
5、继续深化产学研合作
公司高度重视产学研合作，积极与高校及科研院所开展联合研发。公司与广东省科学院半导体研究所、华南理工大学发光材料与器件国家重点实验室达成了产学研合作协议，积极开展联合攻关与联合研发，实现资源共享、深度合作。与高校及科研院所的合作有利于公司掌握前沿的行业技术发展趋势，为公司进行战略性预研项目以及攻克技术难关提供有力支持。
6、加强客户开发和服务
公司立足于国内半导体晶圆制造与芯片设计公司的需求，保持与客户之间的技术交流和沟通，加快推进新客户的开发、测试与验证。在提升产品竞争力和客户技术服务品质的同时，快速响应市场和客户的需求，通过高品质服务与技术互动，实现与客户的密切联系与合作。目前公司已为国内知名特色工艺晶圆代工厂批量供货，并与华虹半导体等行业龙头形成了战略合作关系，未来公司将进一步利用优质客户资源，结合行业需求，加强客户开发和服务工作。
谢谢！

2024-07-25 11:44:00