龙图光罩 (688721): 回答：尊敬的投资者，您好！公司珠海子公司项目将提升公司半导体掩模版的技术水平，加快更高制程掩模版（130nm-65nm节点）的研发和量产，进一步扩大产能规模，公司已相应购置了配套的包括光刻机在内的全流程生产设备。关于光刻机的具体数量及重大投资请关注公司后续的相关公告。 半导体掩模版的生产涉及CAM、光刻、检测三个主要环节，具体包括版图处理、图形补偿、曝光、显影、刻蚀、清洗、缺陷检验、缺陷修补、参数测量贴光学膜等多项复杂工艺，对补偿算法、制程能力、精度水平、缺陷管控具有严格要求，技术壁垒较高。 公司通过自主研发，已储备电子束光刻、PSM 相移掩模版等一系列先进半导体掩模版关键技术，积累了一定的研究成果，为进一步实现产品工艺技术升级、实现更高制程突破打下了坚实的基础。感谢您对公司的关注！

2024-10-28 15:44:25