普冉股份 (688766): 回答：答：SONOS 工艺采用电荷俘获原理，为双管结构，平台设计简洁，需要较低工作电压，同时产生较少功耗损伤，光罩层数更少，具备高性价比、低功耗等优势，此外还可支持页擦除等功能，擦除更快、耐擦写能力强。ETOX 工艺是目前大多数 NOR Flash 厂商采用的主流工艺，基于热电子效应，为单管结构，在大容量领域具备更好的面积优势、更强的安全性和稳定性。制程方面，公司基于 SONOS 工艺已经实现了从 55nm 向 40nm制程迭代，未来将持续推进制程缩减，实现更优芯片性能和更高性价比。ETOX 目前主流工艺制程为 65/55nm，由于热电子效应对物理长度的限制导致沟道尺寸较难进一步缩小，因此向 4Xnm 制程迭代具备一定难度。基于上述工艺差别，公司未来在 NOR Flash 领域将采取中小容量产品以 SONOS 为主，ETOX 为辅；大容量以 ETOX 为主的发展战略,发挥互补协同，实现全容量覆盖，助力公司在 NOR Flash 领域更好更快地发展。谢谢！

2023-07-03 00:00:00