网友提问 ：异丙醇胺通常用作一种化学清洗剂，它能够有效地溶解和去除光刻胶的残留物。清洗光刻胶残留的过程通常包括以下步骤：1. 涂覆光刻胶：首先，在硅片或其他基材上涂覆光刻胶，然后通过光刻工艺将所需的图案 传输到光刻胶上。2.曝光和显影：进行曝光后，光刻胶会发生化学变化，然后使用显影过程去除未曝光的部分，留下所需的图案。3. 清洗：清洗步骤涉及将硅片浸泡在异丙醇胺或其他合适的清洗溶液中。异丙醇胺会溶解

2023-09-15 21:00:14