网友提问 :请问董秘 低压化学气相沉积LPCVD等产品设备的用途?现在是否已量产?

2021-08-30 20:49:01

北京科锐 (002350): 回答:您好!低压化学气相沉积(LPCVD) 设备是指在加热和低压环境下,利用气态原料在固体衬底表面发生化学反应,反应产物在衬底表面沉积形成薄膜的设备。LPCVD设备是在常压化学气相沉积(APCVD)的基础上,为了提高薄膜质量,改善膜厚和电阻率等特性参数的分布均匀性,以及提高生产效率而发展起来的,其主要特征是在低压热场环境下,工艺气体在圆片衬底表面发生化学反应,反应产物在衬底表面沉积形成薄膜。LPCVD设备在优质薄膜的制备方面具有优势,可用于制备氧化硅、氮化硅、多晶硅、碳化硅、氨化镓和石墨烯等薄膜。 公司控股子公司基于TOPCon技术开发出的低压化学气相沉积LPCVD设备已经量产。

2021-08-31 15:13:22

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北京科锐
法定名称:
北京科锐配电自动化股份有限公司
公司简介:
公司前身科锐有限公司(1993年公司设立时名称为北京科锐创新电力技术有限公司,1997年经北京市工商行政管理局核准公司名称变更为北京科锐配电自动化技术有限公司)于1993年7月17日由北京科锐通用电气公司(后更名为北京电研汇华电气公司)和张汉华、袁钦成、张斌、何大海、刘泽刚、李晓峰、向世隆、尹东、谢慈保、王斌、赵宏羽、胡艳萍、李玉生、田世明、张久格、朱炳荣、周敏和王炬等18名自然人股东共同出资成立。2001年4月25日,经北京市人民政府原经济体制改革办公室京政体改股函(2001)30号批准,北京科锐配电自动化技术有限公司采用整体变更的方式,以截至2000年10月31日经审计的账面净资产7,470万元,按照1:1的折股比例整体变更为北京科锐配电自动化股份有限公司。
经营范围:
12kV配电及控制设备的研发、生产和销售。公司主要产品有环网柜、箱式变电站、永磁机构真空开关设备、故障指示器、重合器及其他配电自动化产品。
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