网友提问 :子公司国林半导体臭氧设备产品从2022年下半年开始进行市场导入,2023年以来陆续在半导体、光刻机、面板、科研等行业领域出货验证,该产品用于化学气相沉积(CVD)、原子层薄膜沉积(ALD)、晶圆清洗、污染物及光刻胶去除等工艺中。是否属实?
2024-10-24 18:02:32
国林科技 (300786): 回答:尊敬的投资者,您好。类似的问题已回复,请您参考相关回复和公司公开信息。感谢您的关注。
2024-10-28 15:32:48
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