网友提问 ：据外媒报道，日本冲绳科学技术大学院大学（OIST）设计了一种EUV光源光刻技术，其核心投影仪由两个反射镜组成，将EUV光源到晶圆的反射镜数量限制为总共4面，而在现在行业里，EUV光源需要通过10面反射镜最终到达晶圆，这使得EUV光刻机可采用更小的光源，功率不到传统EUV光刻机的十分之一，如果公司借鉴这种思路，是否能极大降低了我国开发EUV光源难度？毕竟如果不再追求大能量，那就只剩下高重频超快方向了

2024-08-03 10:41:25