网友提问 :美国限制全环绕栅极GAA:全环绕栅极GAA尖端芯片技术,先进芯片架构。 GAA工艺核心在于多次光刻、刻蚀、沉积:核心步骤通过原子层沉积(ALD)技术完成!!公司掩模版是否可以用在GAA工艺上?

2024-12-06 17:33:51

冠石科技 (605588): 回答:尊敬的投资者,您好!公司光掩膜版制造项目正在投建过程中,项目建成后,将具备年产逾1.25万片半导体光掩膜版的生产能力,产品制程覆盖350-28nm(其中以45-28nm成熟制程为主),可广泛应用于高性能计算、人工智能、移动通信、智能电网、高速轨道交通、新能源汽车、消费类电子等众多产业涉及的集成电路半导体领域,能够满足多类晶圆设计、晶圆代工企业的采购需求,以及先进半导体芯片封装、半导体器件等产品的应用需求。谢谢!

2024-12-06 17:33:51

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冠石科技
法定名称:
南京冠石科技股份有限公司
公司简介:
2002年1月18日,南京冠石科技有限公司成立。
经营范围:
半导体显示器件及特种胶粘材料的研发、生产和销售。
注册地址
江苏省南京经济技术开发区恒通大道60号
办公地址
江苏省南京经济技术开发区恒广路21号

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