网友提问 :3.公司目前PECVD、ALD等产品的工艺覆盖率情况?以及在公司客户端的进展情况?
2024-03-29 00:00:00
拓荆科技 (688072): 回答:答:公司持续保持高强度研发投入,目前PECVD产品可以实现全系列PECVD薄膜材料覆盖,包括通用介质薄膜(SiO2、SiN、TEOS、SiON、SiOC、FSG、BPSG、PSG等)及先进介质薄膜(LoKI、LoKII、ACHM、ADCI、HTN、a-Si、ONO等);公司研制的PE-ALD设备已经实现量产,可以沉积SiO₂、SiN等介质薄膜材料;Thermal-ALD设备已经出货至不同客户端进行验证,可以沉积AL₂O₃等金属及金属化合物薄膜。公司持续扩大PECVD、ALD等产品的工艺覆盖面,并根据客户需求持续创新、提升性能指标,公司薄膜设备产品已获得客户的大量订单。
2024-03-29 00:00:00