网友提问 ：Q9：请问公司切入清洗设备领域有何进展？
2023-09-01 00:00:00
华海清科 (688120): 回答：A：公司CMP设备是包含清洗模块的，清洗技术均为公司自主研发。CMP产品中配备的清洗单元能够在抛光完成后对晶圆表面污染物残留进行有效去除，基于公司在此领域的技术积淀和集成电路客户需求，公司积极开展清洗设备的研发工作。公司研发的清洗设备主要面向材料端的终端清洗市场需求，2023年上半年，公司应用于12英寸硅衬底CMP工艺后清洗设备和应用于4/6/8英寸化合物半导体清洗设备已推向相关细分市场。
2023-09-01 00:00:00