清溢光电 (688138): 回答：公司成立于1997年。公司研发团队稳定，主要研发人员在公司任职年限平均为20余年，在掩膜版行业积累了丰富的工艺技术和实践应用经验。自成立以来，公司所有的产品、技术和设备研发均由公司研发团队自主完成。公司于2002年5月组建研发中心，2007年12月依托于公司的“深圳市光掩膜技术研究开发中心”通过深圳市科技和信息局认定；2012年12月公司申请成立的“广东省光掩膜工程技术研究开发中心”经广东省科学技术厅、广东省发展和改革委员会、广东省经济和信息化委员会联合批准并获授牌。公司也不断通过社会招聘吸纳研发人才，壮大研发队伍。公司作为国内掩膜版厂商龙头企业之一，承担了5至8代TFT-LCD用掩模版产业化及5.5代及以下AMOLED用掩膜版产品研发及产业化等国家级重大科研项目。序号 项目名称 项目说明 立项情况 进展情况1 5至8代TFT-LCD用掩模版产业化实现8.5代及以下TFT-LCD用高精度掩膜版规模化生产，技术指标；在1,220mm×1,400mm的尺寸范围，实现最小线/间宽2µm图形的精度与缺陷控制达到：线/间（CD）精度=±0.35µm；总长（TP）精度=±0.50µm；允许缺陷尺寸≤3.0µm。 国家发展改革委、深圳市发展改革委批复项目 验收完成2 5.5代及以下AMOLED用掩膜版产品研发及产业化 在800mm×920mm的尺寸范围，实现最小线/间宽2µm图形的精度与缺陷控制达到：线/间（CD）精度=±0.10µm；线条均匀性（CD Range）<0.10µm；总长（TP）精度=±0.30µm；套合精度（Overlay）=±0.30µm；允许缺陷尺寸≤1.0µm。满足5.5代AMOLED用掩膜版生产。 工业和信息化部项目 验收完成

2021-11-09 00:00:00