网友提问 ：Q14：请问公司目前开展的清洗、量测产品开发的基础有哪些？
2022-08-31 00:00:00
华海清科 (688120): 回答：A：公司CMP设备是包含量测及清洗模块的。量测集成在抛光系统里，在抛光过程中需要量测模块对膜厚数据等进行监控以实现纳米厚度“停得准”，抛光完成后需要清洗单元对晶圆表面污染物残留进行去除。
2022-08-31 00:00:00
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2022-08-31 00:00:00
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2022-08-31 00:00:00
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华海清科
法定名称：
华海清科股份有限公司
公司简介：
2020年3月18日,公司名称由天津华海清科机电科技有限公司更名为华海清科股份有限公司。
经营范围：
从事半导体专用设备的研发、生产、销售及技术服务。
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