网友提问 :在最新的披露的调研纪要中显示“加工工艺方面,公司联合开发了用于化学机械抛光(CMP)的高精密设备,实现了优良的表面完整性”,请问公司是在合作开发CMP相关的半导体设备吗?能否介绍一下相关进展情况。谢谢!
2022-12-12 17:07:41
神工股份 (688233): 回答:尊敬的投资者,您好。上述抛光设备开发,是公司与国内先进厂商合作,向其提供符合公司产品加工工艺的设计理念,委托其加工制造设备本体。感谢您的关注。
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