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- 网友提问 :尊敬的董秘先生:近日,华海清科股份有限公司和清华大学共同完成的 “集成电路化学机械抛光关键技术与装备”项目荣获 2023 年度国家技术发明奖 一等奖,公司董事长、首席科学家路新春先生作为项目第一完成人获得 2023 年 度国家技术发明奖一等奖证书。请问,这项技术对贵公司cmp业务有何影响?
2024-06-24 22:18:22
鼎龙股份 (300054): 回答 :感谢您的关注。在CMP制程工艺材料领域,公司致力于为下游晶圆厂客户提供整套的一站式CMP核心材料及服务,持续提升系统化的CMP环节产品支持能力、技术服务能力、整体方案解决能力,努力成为国内首家也是唯一一家集成电路CMP环节全产品综合性方案提供商。目前,公司和国产CMP设备厂商开展深度合作交流,CMP抛光材料产品可以适配国外及国产机台,深度渗透国内主流晶圆厂,产品销售稳定持续放量:预计2024年上半年度CMP抛光垫销售收入3.0亿元,同比增长 100.3%;CMP 抛光液、清洗液产品合计销售约 0.77 亿元,同比增长 190.87%。具体情况详见公司在巨潮资讯网的公开披露信息。2024-06-27 17:11:52
[ 详细 ] - 网友提问 :请问董秘:公司CMP抛光垫及其三大原材料实现产业化突破,并打破国外垄断!为何没有去申报国家科学技术奖?
2024-06-25 08:24:02
鼎龙股份 (300054): 回答 :感谢您的关注。公司结合自身业务特点及申报评选标准,积极申报各级政府及各部门的项目支持及奖项评选,在半导体材料新业务各细分产品领域均取得较好的政府项目支持,相关情况请以公司在巨潮资讯网公开披露的信息为准。2024-06-27 17:13:44
[ 详细 ] - 网友提问 :董秘您好,请问抛光垫CMP的市场规模有多大?公司在建的光刻胶工程大概什么时候可以完成?公司缺资金发展是否考虑引入国家集成电路大基金?
2024-06-07 13:35:10
鼎龙股份 (300054): 回答 :感谢您的关注。目前国内CMP抛光垫市场空间约为20亿元,公司做为国内唯一一家全面掌握 CMP 抛光垫全流程核心研发技术和生产工艺的 CMP 抛光垫供应商,将持续着力提升CMP抛光垫产品在国内市场的渗透水平,努力保持良好的销售增长趋势。在高端晶圆光 刻胶(KrF/ArF光 刻胶)领域,公司现已打造了武汉和潜江双研发中心,已建成设备品类齐全的材料分析和应用评价平台,潜江年产300吨光 刻胶量产线的建设也正常推进中。此外,公司及公司体系内各子公司若有重大投融资事项,请以公司公开披露信息为准。2024-06-27 17:01:06
[ 详细 ] - 网友提问 :董秘您好,今年5月中国芯片出口大增28.47%,国内晶圆厂成熟制程的稼动率现在100%,请问公司目前的半导体材料出货情况如何,pad和抛光液及oled材料渗透率现在是个什么样的水平?公司研发的Arf光刻胶验证进度是否顺利?谢谢!
2024-06-20 11:03:48
鼎龙股份 (300054): 回答 :感谢您的关注。公司半导体材料业务今年处于放量增长阶段,各领域产品在国内下游核心客户端的占有率努力提升中,同时下游晶圆厂、面板厂客户稼动率的提升对公司半导体材料业务起到了良好的促进作用。2024年上半年度,预计:①CMP 抛光垫销售约 3.0 亿,同比增长 100.3%。其中今年第二季度实现销售收入约 1.64 亿元,环比增长 21.93%,同比增长 92.77%。②CMP 抛光液、清洗液产品合计销售约 0.77 亿元,同比增长 190.87%。其中今年第二季度实现销售收入约4,079 万元,环比增长 13.56%,同比增长 179.13%。③YPI、PSPI 等半导体显示材料业务合计销售约 1.68 亿元,同比增长 234.56%。其中今年第二季度实现销售收入约 9,825 万元,环比增长 39.93%,同比增长 163.69%。在高端晶圆光 刻胶领域,公司KrF、ArF光 刻胶的验证工作顺利进行中。具体情况详见公司在巨潮资讯网的公开披露信息。2024-06-27 17:07:16
[ 详细 ] - 网友提问 :请问董秘:半导体材料PSPI/ KrF/ArF及抛光液项目迟迟未见效益,是否是为了控股股东融资而虚设的项目?灵魂拷问:公司是否存在造假行为?
2024-06-20 13:38:35
鼎龙股份 (300054): 回答 :感谢您的关注。公司半导体显示材料,及CMP抛光液、清洗液产品都处于快速上量阶段,其中2024年上半年度:YPI、PSPI 等半导体显示材料业务预计合计销售约 1.68 亿元,同比增长 234.56%;CMP 抛光液、清洗液产品预计合计销售约0.77亿元,同比增长190.87%。高端晶圆光 刻胶业务快速推进中,现已打造了武汉和潜江双研发中心,已建成设备品类齐全的材料分析和应用评价平台,产品在客户端的验证按计划进行。具体情况详见公司在巨潮资讯网的公开披露信息。2024-06-27 17:08:16
[ 详细 ] - 网友提问 :董秘,你好!贵司在“集团”领导下,一直重视科技创新,开发了许多创新的生产工艺,和科技成果。请介绍一下贵司近年来有哪些科技创新成果或工艺,得到国家、省、市或行业认可(证)。公司是否有计划在半导体项目方面如HMB 、CMP 抛光液等,与国家大基金三期合作,在资金方面得到他们的支持。谢谢!
2024-06-21 15:32:21
凯盛科技 (600552): 回答 :尊敬的投资人,您好,公司围绕实现高水平科技自立自强,公司聚焦行业科技前沿,推进超薄柔性玻璃一次成型技术、电子用柔性玻璃新材料技术、屏幕定向发声用关键材料技术、无介质成像用关键材料技术、半导体和电子级合成高纯石英技术、固态/半固态电池等新能源用锆材料技术等一批关键核心技术的攻坚克难,承担了发改委、工信部、国家火炬计划、省重点专项等多项战略性新产业和未来产业课题。感谢您的关注。2024-06-21 15:32:21
[ 详细 ] - 网友提问 :国家统筹推进车路云一体化项目,贵司全资子公司爱云信息自身在车联网云端有什么优势?国内电动车新势力是否是爱云信息客户?公司如何把握车路云一体化的机会?
2024-06-17 16:30:00
宜通世纪 (300310): 回答 :您好!1、爱云信息与联通合作,基于联通物联网给国内用户提供CMP(连接管理平台)服务,实现全行业覆盖,主要的行业为车联网,智能抄表,智慧城市等。2,公司目前暂时没有车路云协同方面的业务;谢谢您的关注,请注意投资风险。2024-06-19 15:04:30
[ 详细 ] - 网友提问 :贵公司潜力在哪里?
2024-06-06 21:23:54
广立微 (301095): 回答 :尊敬的投资者您好,公司长期专注于芯片成品率提升和电性测试快速监控技术,并形成了以EDA软件、电路IP、WAT测试设备以及与芯片成品率提升技术相结合的全流程解决方案。近年来,公司在EDA软件方面持续投入研发、拓展延伸至更多元化的工具品类,陆续推出了大数据分析与管理系列软件(包含DE-G, DE-YMS, DE-DMS等)、可制造性设计软件CMP仿真建模工具,并完成了在DFT(可测试性设计)领域等业务布局;在电性测试设备领域,公司先后推出优化升级的WAT测试设备(T4000机型、T4000 Max机型)、晶圆级可靠性测试设备,不断扩大产品应用场景和拓展在电性测试领域的市场。上述软硬件产品的研发和推出能够帮助公司不断扩大公司客户群体和业务市场空间,进一步提升公司的产品与市场竞争格局,为公司的业绩提供新的多点增长引擎。感谢您的关注!2024-06-17 17:35:27
[ 详细 ] - 网友提问 :您好,请问贵公司的CMP抛光垫、CMP抛光液、CMP清洗液是外购还是自产?
2024-06-12 15:35:58
华海清科 (688120): 回答 :尊敬的投资者您好!公司是一家拥有核心自主知识产权的高端半导体装备制造商,暂未涉及CMP抛光垫、CMP抛光液、CMP清洗液等生产。上述耗材与公司CMP装备等配合应用于先进集成电路制造商芯片制造流程,同时,公司在CMP装备工艺开发及验证等环节会少量使用CMP抛光垫、CMP抛光液、CMP清洗液等耗材,上述使用的耗材主要源于外购。感谢您对公司的关注!2024-06-12 15:35:58
[ 详细 ] - 网友提问 :公司目前在国内化学清洗领域市场表现如何,有哪些优势技术
2024-06-07 10:15:00
芯源微 (688037): 回答 :公司战略性新产品前道化学清洗机 KS-CM300/200 于 2024 年 3 月正式公开发布,机台具有高工艺覆盖性、高稳定性、高洁净度、高产能等多项核心优势,并于 2023 年第四季度获得了国内重要客户的验证性订单。截至2024年4月底,公司已与国内其他多家重要客户达成合作意向,部分客户已进入到配置确认和商务流程阶段。作为公司的战略性新产品,后续公司将继续加大研发和推广力度,快速推进化学清洗机的商业化进程。 ①高工艺覆盖性:设备适用于薄膜前后清洗、干法蚀刻后清洗、离子注入灰化后清洗、CMP后清洗等多种清洗工艺,能够适配高温 SPM 工艺,整体工艺覆盖率达到 80%以上。 ②高稳定性:机台 UP Time 达到高指标要求,刻蚀一致性随机抽取 100 组稳定在 2%以内,可以满足客户的高稳定性需求。 ③高洁净度:机台借鉴了公司前道涂胶显影和前道物理清洗的成熟技术,通过气体流场仿真优化,确保机台内部微环境均匀稳定,同时搭载了独立研发的新一代高清洗效率低损伤射流喷嘴,通过 26nm particle 测试,达到先进制程所需工艺水平。 ④高产能:通过移植前道涂胶显影设备多层堆叠的技术优势,同时搭载公司自研的高速机械手,机台 16 腔高产能架构可以实现清洗效率的大幅提升,整体工艺产能够对标国际主流机台,达到国际先进水平。 相比于前道涂胶显影设备,前道清洗类设备标准化程度相对较高,验证周期较短,通过验证后有望快速提升市场份额。公司于 2018 年发布前道物理清洗设备后,在两年的时间内迅速成为了客户端主力量产机型。公司将借助前道物理清洗设备的成功经验,力争在前道化学清洗赛道实现跨越式发展,未来与前道涂胶显影设备一道形成两大主打优势产品,为公司长期发展提供稳定的业绩增长点。2024-06-07 10:23:00
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